2020中國(guó)（深圳）國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會(huì)
[展會(huì).在線] 發(fā)布者：促進(jìn)發(fā)展 發(fā)布時(shí)間：2020/3/13 16:29:32
信息標(biāo)簽：光刻機(jī)|光掩膜|刻蝕機(jī)|電子束|離子束|3D 打印
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2020中國(guó)（深圳）國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會(huì)
2020-08-27 至 08-29
深圳會(huì)展中心
◆光刻機(jī)、光刻技術(shù)、步進(jìn)投影光刻機(jī)、掃描投影光刻機(jī)、納米光刻技術(shù)、無(wú)掩模光刻技術(shù)、沉浸式光刻技術(shù)、準(zhǔn)分子激光光刻技術(shù)、極紫外光刻機(jī)、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術(shù)、微光刻技術(shù)、電子束曝光機(jī)、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機(jī)、光刻機(jī)零部件、光刻前處理材料、曝光系統(tǒng)、光刻-掩模無(wú)機(jī)芯片與加工系統(tǒng)、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設(shè)備等；
◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設(shè)備、光掩模測(cè)試等；
展出時(shí)間：
撤展時(shí)間：