一、鍍膜設(shè)備類：

1、鍍膜設(shè)備：真空鍍膜機(jī)、真空蒸鍍?cè)O(shè)備、光學(xué)鍍膜機(jī)、濺射鍍膜機(jī)、眼鏡鍍膜機(jī)、光纖鍍膜、CVD設(shè)備、MOCVD設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備、玻璃鍍膜設(shè)備、磁控鍍膜、蒸鍍?cè)O(shè)備、離子束沉積設(shè)備、電子槍、離子源、蒸發(fā)沉積掩膜、鍍膜機(jī)、鍍膜夾具等鍍膜設(shè)備及鍍膜相關(guān)設(shè)備；

2、加熱類：電阻加熱、電子束加熱、高頻感應(yīng)加熱、電弧加熱、激光加熱等加熱技術(shù)設(shè)備；

3、靶材：濺射靶材、金屬靶材、合金靶材、非金屬靶材、陶瓷靶材、化合物靶材、單晶靶材、氧化物靶材、硼化物靶材、碳化物靶材、蒸發(fā)材料、特種靶材等各類靶材；

4、設(shè)備及儀器：熔煉技術(shù)、噴涂技術(shù)、焊接技術(shù)、分析測(cè)試儀器、檢測(cè)試驗(yàn)設(shè)備、鍍膜測(cè)試等；

二、鍍膜材料類：

1、氧化物：一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3等高純氧化物鍍膜材料；

2、氟化物：氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2，氟化鈰CeF3，氟化鎂MgF2，氟化鑭LaF3，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物；

3、其它化合物：硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫化鎘CdS等真空鍍膜材料；

4、金屬鍍膜材料：高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純鉭TA，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，銅銦鎵合金CuInGa，銅銦鎵硒合金CuInGaSe，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料；

5、涂層：PVD涂層、TiN涂層、TiC涂層、TiCN涂層、ZrN涂層、CrN涂層、MoS2涂層、TiAlN涂層、TiAlCN涂層、TiN-AlN涂層、CNx涂層、DLC涂層、ta-C涂層等多元復(fù)合涂層；

開幕典禮：2020年11月20日 (09：00-09：30)

展出時(shí)間：2020年11月20日（08：30-16：30）

2020年11月21日（08：30-16：30）

2020年11月22日（08：30-15：30）

撤展時(shí)間：2020年11月22日（15：30-19：30）