展品范圍 Exhibition Scope
■ 靶材：濺射靶材、金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材、合金靶材、單晶靶材、氧化物靶材、硼化物靶材、碳化物靶材、貴金屬靶材、稀有金屬靶材（鈦、鈮、鋯、鎳、鉭、鎢、鉬、鉿、鉻、銀等），單一金屬靶材、蒸發(fā)材料、特種靶材等各類靶材；
■ 鍍膜材料：金屬膜料、氧化物、氟化物、硫化物、鈦酸物、混合物等各種膜材、鍍膜蒸發(fā)料；PVD涂層、TiN涂層、TiC涂層、TiCN涂層、ZrN涂層、CrN涂層、MoS2涂層、TiAlN涂層、TiAlCN涂層、TiN-AlN涂層、CNx涂層、DLC涂層、ta－C涂層等多元復(fù)合涂層；
■ 低溫超導(dǎo)薄膜：低熔點超導(dǎo)薄膜：低熔點超導(dǎo)薄膜，合金薄膜；高熔點超導(dǎo)薄膜：難熔金屬，合金薄膜；化合物超導(dǎo)薄膜： NbN和Nb3Sn、Nb3Ge薄膜；高溫超導(dǎo)薄膜；釔系薄膜、鉍系薄膜和鉈系薄膜；
■ 功能薄膜：光學(xué)薄膜，背光/顯示用膜，顯示屏用膜，產(chǎn)業(yè)用薄膜，光伏薄膜；
■ 鍍膜設(shè)備：真空鍍膜機(jī)、真空蒸鍍設(shè)備、光學(xué)鍍膜機(jī)、濺射鍍膜機(jī)、眼鏡鍍膜機(jī)、光纖鍍膜、CVD設(shè)備、MOCVD設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備、玻璃鍍膜設(shè)備、磁控鍍膜、蒸鍍設(shè)備、離子束沉積設(shè)備、電子槍、離子源；蒸發(fā)沉積掩膜、晶振片、鍍膜夾具、配件、儀器、鍍膜測試與監(jiān)控設(shè)備、膜厚監(jiān)測儀、鍍膜牢固度測試器等；
■ 鍍膜材料生產(chǎn)加工設(shè)備：冷等靜壓機(jī)，熱等靜壓機(jī)，磁控濺射熱蒸發(fā)，銅帶銅銦硫技術(shù)與設(shè)備，高溫釬焊爐，燒結(jié)爐，中頻感應(yīng)爐，電子束區(qū)熔爐，電子束熔煉爐，大面靶材釬焊爐，高溫真空熱壓爐，軋機(jī)等；
■ 超導(dǎo)器件：超導(dǎo)隧道器件，超導(dǎo)量子干涉器件，
■ 薄膜成型機(jī)械、檢測檢驗儀器、特殊裝置、薄膜原料及化工產(chǎn)品；
■其它表面工程設(shè)備、材料及技術(shù)；
■相關(guān)出版物及網(wǎng)絡(luò)。

布展時間：
展出時間：
撤展時間：