展品范圍 Exhibition Scope
■ 靶材：濺射靶材、金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材、合金靶材、單晶靶材、氧化物靶材、硼化物靶材、碳化物靶材、貴金屬靶材、稀有金屬靶材（鈦、鈮、鋯、鎳、鉭、鎢、鉬、鉿、鉻、銀等），單一金屬靶材、蒸發(fā)材料、特種靶材等各類靶材；
■ 鍍膜材料：金屬膜料、氧化物、氟化物、硫化物、鈦酸物、混合物等各種膜材、鍍膜蒸發(fā)料；PVD涂層、TiN涂層、TiC涂層、TiCN涂層、ZrN涂層、CrN涂層、MoS2涂層、TiAlN涂層、TiAlCN涂層、TiN-AlN涂層、CNx涂層、DLC涂層、ta－C涂層等多元復合涂層；
■ 低溫超導薄膜：低熔點超導薄膜：低熔點超導薄膜，合金薄膜；高熔點超導薄膜：難熔金屬，合金薄膜；化合物超導薄膜： NbN和Nb3Sn、Nb3Ge薄膜；高溫超導薄膜；釔系薄膜、鉍系薄膜和鉈系薄膜；
■ 功能薄膜：光學薄膜，背光/顯示用膜，顯示屏用膜，產業(yè)用薄膜，光伏薄膜；
■ 鍍膜設備：真空鍍膜機、真空蒸鍍設備、光學鍍膜機、濺射鍍膜機、眼鏡鍍膜機、光纖鍍膜、CVD設備、MOCVD設備、薄膜沉積設備、玻璃鍍膜設備、磁控鍍膜、蒸鍍設備、離子束沉積設備、電子槍、離子源；蒸發(fā)沉積掩膜、晶振片、鍍膜夾具、配件、儀器、鍍膜測試與監(jiān)控設備、膜厚監(jiān)測儀、鍍膜牢固度測試器等；
■ 鍍膜材料生產加工設備：冷等靜壓機，熱等靜壓機，磁控濺射熱蒸發(fā)，銅帶銅銦硫技術與設備，高溫釬焊爐，燒結爐，中頻感應爐，電子束區(qū)熔爐，電子束熔煉爐，大面靶材釬焊爐，高溫真空熱壓爐，軋機等；
■ 超導器件：超導隧道器件，超導量子干涉器件，
■ 薄膜成型機械、檢測檢驗儀器、特殊裝置、薄膜原料及化工產品；
■其它表面工程設備、材料及技術；
■相關出版物及網(wǎng)絡。

布展時間：
展出時間：
撤展時間：