展覽范圍：
濺射靶材：高純鈷靶、超高純金屬濺射靶、超高純合金靶材、銅和銅合金靶材、鈦和鈦合金靶材、金屬濺射鍍膜靶材、合金濺射鍍膜靶材、陶瓷濺射鍍膜靶材、陶瓷濺射靶材、磷化銦靶材、砷化鉛靶材、砷化銦靶材、復合濺射靶材、微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材、金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材、方靶，圓靶，異型靶等其他靶材;
金屬靶材：鎳靶、鈦靶、鋅靶、鉻靶、鎂靶、鈮靶、錫靶、鋁靶、銦靶、鐵靶、鋯鋁靶、鈦鋁靶、鋯靶、鋁硅靶、硅靶、銅靶、鉭靶、鍺靶、銀靶、鈷靶、金靶、釓靶、鑭靶、釔靶、鈰靶、鎢靶、不銹鋼靶、鎳鉻靶、鉿靶鉬靶、鐵鎳靶、鎢靶等金屬濺射靶材;
陶瓷靶材：ITO靶、AZO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶、五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、記錄介質(zhì)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導陶瓷靶材、巨磁電阻陶瓷靶材、氧化鎳靶等陶瓷濺射靶材;
合金靶材：鐵鎳鉻合金靶、鎳釩合金靶、鋁硅合金靶、鎳銅合金靶、鈦鋁合金、鎳釩合金靶、硼鐵合金靶、硅鐵合金靶等高純度合金濺射靶材;
技術裝備：試驗測試設備、分析檢測儀器、測量儀、工業(yè)爐、熱處理、軋機、燒結爐、焊接、熱等靜壓、真空設備、表面處理技術設備、環(huán)保安全設備、廢水處理設備、刊物/傳媒等。
鍍膜材料：增透膜、半反膜、晶體鍍膜、紅外鍍膜、紫外鍍膜、鍍鋁膜、彩膜、裝膜、復合膜、鐳射膜、電容器膜、反射膜、濾光膜、分光膜、分束鏡、濾光片、帶通膜、截止膜、高反膜、金屬膜料、氧化物、氟化物、硫化物、鈦酸物、混合物等各種膜材、鍍膜蒸發(fā)料;PVD涂層、TiN涂層、TiC涂層、TiCN涂層、ZrN涂層、CrN涂層、MoS2涂層、TiAlN涂層、TiAlCN涂層、TiN-AlN涂層、CNx涂層、DLC涂層、ta-C涂層等多元復合涂層;
鍍膜設備：離子鍍膜設備、磁控鍍膜設備、磁控/蒸發(fā)兩用鍍膜設備、磁控卷繞鍍膜機、真空鍍膜設備等各類鍍膜設備、真空鍍膜機、真空蒸鍍設備、光學鍍膜機、濺射鍍膜機、眼鏡鍍膜機、光纖鍍膜、CVD 設備、MOCVD 設備、薄膜沉積設備、玻璃鍍膜設備、磁控鍍膜、蒸鍍設備、離子束沉積設備、電子槍、離子源;蒸發(fā)沉積掩膜、晶振片、鍍膜夾具、配件、儀器、鍍膜測試 與監(jiān)控設備、膜厚監(jiān)測儀、鍍膜牢固度測試器等;
材料生產(chǎn)加工設備：冷等靜壓機，熱等靜壓機，高溫釬焊爐，燒結爐，真空爐，中頻感應爐，電子束區(qū)熔爐，電子束熔煉爐，大面積靶材釬焊爐，高溫真空熱壓爐，軋機等;
其他：低溫超導薄膜;化合物超導薄膜;高溫超導薄膜;功能薄膜;超導器件;潔凈工程;

布展時間：
展出時間：
撤展時間：