◆、鍍膜材料：金屬膜料、氧化物、氟化物、硫化物、鈦酸物、混合物等各種膜材、鍍膜蒸發(fā)料；PVD 涂層、TiN 涂層、TiC 涂層、TiCN 涂層、ZrN 涂層、CrN 涂層、MoS2 涂層、TiAlN 涂 層、TiAlCN 涂層、TiN-AlN 涂層、CNx 涂層、DLC 涂層、ta－C 涂層等多元復(fù)合涂層；靶材：濺射靶材、金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材、合金靶材、單晶靶材、氧化物靶材、硼化物靶材、碳化物靶材、貴金屬靶材、稀有金屬靶材（鈦、鈮、鋯、鎳、鉭、鎢、鉬、鉿、鉻、銀等），單一金屬靶材、蒸發(fā)材料、特種靶材等各類靶材；
◆、低溫超導(dǎo)薄膜：低熔點(diǎn)超導(dǎo)薄膜：低熔點(diǎn)超導(dǎo)薄膜，合金薄膜；高熔點(diǎn)超導(dǎo)薄膜：難熔金屬，合金薄膜；化合
物超導(dǎo)薄膜： NbN 和 Nb3Sn、Nb3Ge 薄膜；
◆、高溫超導(dǎo)薄膜：釔系薄膜、鉍系薄膜和鉈系薄膜；
◆、功能薄膜：光學(xué)薄膜，背光/顯示用膜，顯示屏用膜，產(chǎn)業(yè)用薄膜，光伏薄膜；
◆、鍍膜設(shè)備：真空鍍膜機(jī)、真空蒸鍍?cè)O(shè)備、光學(xué)鍍膜機(jī)、濺射鍍膜機(jī)、眼鏡鍍膜機(jī)、光纖鍍膜、CVD 設(shè)備、MOCVD 設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備、玻璃鍍膜設(shè)備、磁控鍍膜、蒸鍍?cè)O(shè)備、離子束沉積設(shè)備、電子槍、離子源；蒸發(fā)沉積掩膜、晶振片、鍍膜夾具、配件、儀器、鍍膜測(cè)試與監(jiān)控設(shè)備、膜厚監(jiān)測(cè)儀、鍍膜牢固度測(cè)試器等；
◆、鍍膜材料生產(chǎn)加工設(shè)備：冷等靜壓機(jī)，熱等靜壓機(jī)，磁控濺射熱蒸發(fā)，銅帶銅銦硫技術(shù)與設(shè)備，高溫釬焊爐，
燒結(jié)爐，感應(yīng)爐，電子束區(qū)熔爐，電子束熔煉爐，大面靶材釬焊爐等；
◆、超導(dǎo)器件：超導(dǎo)隧道器件，超導(dǎo)量子干涉器件，
◆、薄膜成型機(jī)械、檢測(cè)檢驗(yàn)儀器、特殊裝置、薄膜原料及化工產(chǎn)品；
◆、潔凈工程：潔凈、防護(hù)系統(tǒng)，屏蔽防護(hù)產(chǎn)品、屏蔽機(jī)房設(shè)備、屏蔽桌/臺(tái)/柜，安全防護(hù)服、潔凈室耗材、防靜 電產(chǎn)品等；

布展時(shí)間：
展出時(shí)間：
撤展時(shí)間：