參展范圍：
1.PCB光刻膠、干膜光刻膠、濕膜光刻膠、LCD光刻膠、TFT正性膠、彩色光刻膠、黑色光刻膠、G線光刻膠、線光刻膠、KRF光刻膠、ARF光刻膠、CCD攝像頭彩色濾光片光刻膠、MEMS光刻膠、觸摸屏透明光刻膠、生物芯片光刻膠、LED光刻膠、半導體光刻膠等：
2.高粘度光刻膠、EUV光刻膠、干法光刻膠、化工藝光刻膠、半導體高端光刻膠、光刻膠配套試劑（PSPI）光刻膠、正性光刻膠、紫外線正膠、紫外線負膠、光刻膠光敏劑、光刻膠殘膠收集裝置、光刻膠專用化學品、光刻膠的顯影和剝離、涂膠顯影設備、彩色光刻膠、光敏聚酰亞胺、聚酰亞胺（PI）、光刻膠材料、光刻工藝材料、光刻膠單體材料、半導體化合物、光刻膠聚合物。
3.ASML光刻機、IC前道光刻機、紫外光刻機（EUV）光學、光刻設備、光刻膠用光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產酸劑）光刻膠樹脂、光刻膠去除劑、溶劑、螯合劑、 緩蝕劑、光致產酸劑、鋯前驅體集、生產、檢測等

布展時間：
展出時間：
撤展時間：