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2022第四屆深圳國際光刻膠材料展覽會
2022-08-23 至 08-25
深圳國際會展中心
2.高粘度光刻膠、EUV光刻膠、干法光刻膠、化工藝光刻膠、半導(dǎo)體高端光刻膠、光刻膠配套試劑(PSPI)光刻膠、正性光刻膠、紫外線正膠、紫外線負膠、光刻膠光敏劑、光刻膠殘膠收集裝置、光刻膠專用化學品、光刻膠的顯影和剝離、涂膠顯影設(shè)備、彩色光刻膠、光敏聚酰亞胺、聚酰亞胺(PI)、光刻膠材料、光刻工藝材料、光刻膠單體材料、半導(dǎo)體化合物、光刻膠聚合物。
3.ASML光刻機、IC前道光刻機、紫外光刻機(EUV)光學、光刻設(shè)備、光刻膠用光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)光刻膠樹脂、光刻膠去除劑、溶劑、螯合劑、 緩蝕劑、光致產(chǎn)酸劑、鋯前驅(qū)體集、生產(chǎn)、檢測等
展覽展示:2022年08月23-25日 撤 展: 2022年08月25日