一、鍍膜設(shè)備類(lèi)：
1、鍍膜設(shè)備：真空鍍膜機(jī)、真空蒸鍍?cè)O(shè)備、光學(xué)鍍膜機(jī)、濺射鍍膜機(jī)、眼鏡鍍膜機(jī)、光纖鍍膜、CVD設(shè)備、MOCVD設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備、玻璃鍍膜設(shè)備、磁控鍍膜、蒸鍍?cè)O(shè)備、離子束沉積設(shè)備、電子槍、離子源、蒸發(fā)沉積掩膜、鍍膜機(jī)、鍍膜夾具等鍍膜設(shè)備；
2、加熱類(lèi)：電阻加熱、電子束加熱、高頻感應(yīng)加熱、電弧加熱、激光加熱等加熱技術(shù)設(shè)備；
3、靶材：濺射靶材、金屬靶材、合金靶材、非金屬靶材、陶瓷靶材、化合物靶材、單晶靶材、氧化物靶材、硼化物靶材、碳化物靶材、蒸發(fā)材料、特種靶材等各類(lèi)靶材；
4、設(shè)備及儀器：熔煉技術(shù)、噴涂技術(shù)、焊接技術(shù)、分析測(cè)試儀器、檢測(cè)試驗(yàn)設(shè)備、潔凈工程等；
二、鍍膜材料類(lèi)：
1、高純化合物：氧化物鍍膜材料、氟化物鍍膜材料、高純氟化物鍍膜材料等；
2、其它化合物：硫化鋅ZnS、硒化鋅ZnSe、氮化鈦TiN、碳化硅SiC等真空鍍膜材料；
3、金屬鍍膜材料：高純鋁、高純銅、高純鈦、高純硅、高純金、高純銀、高純銦、高純鎂、高純鋅、高純鉑、高純鍺、高純鎳、高純鉭等金屬鍍膜材料；
4、高溫/低溫超導(dǎo)薄膜：低熔點(diǎn)超導(dǎo)薄膜、高熔點(diǎn)超導(dǎo)薄膜、合金薄膜、難熔金屬薄膜、化合物超導(dǎo)薄膜、NbN和Nb3Sn、Nb3Ge薄膜；釔系薄膜、鉍系薄膜和鉈系薄膜；
5、功能性薄膜：光學(xué)薄膜，背光/顯示用膜，顯示屏用膜，產(chǎn)業(yè)用薄膜，光伏薄膜；
6、涂層：PVD涂層、TiN涂層、TiC涂層、TiCN涂層、ZrN涂層、CrN涂層、MoS2涂層、TiAlN涂層、TiAlCN涂層、TiN-AlN涂層、CNx涂層、DLC涂層、ta-C涂層等多元復(fù)合涂層；

布展時(shí)間：
展出時(shí)間：
撤展時(shí)間：