一、鍍膜設備類：
1、鍍膜設備：真空鍍膜機、真空蒸鍍設備、光學鍍膜機、濺射鍍膜機、眼鏡鍍膜機、光纖鍍膜、CVD設備、MOCVD設備、薄膜沉積設備、玻璃鍍膜設備、磁控鍍膜、蒸鍍設備、離子束沉積設備、電子槍、離子源、蒸發(fā)沉積掩膜、鍍膜機、鍍膜夾具等鍍膜設備；
2、加熱類：電阻加熱、電子束加熱、高頻感應加熱、電弧加熱、激光加熱等加熱技術設備；
3、靶材：濺射靶材、金屬靶材、合金靶材、非金屬靶材、陶瓷靶材、化合物靶材、單晶靶材、氧化物靶材、硼化物靶材、碳化物靶材、蒸發(fā)材料、特種靶材等各類靶材；
4、設備及儀器：熔煉技術、噴涂技術、焊接技術、分析測試儀器、檢測試驗設備、潔凈工程等；
二、鍍膜材料類：
1、高純化合物：氧化物鍍膜材料、氟化物鍍膜材料、高純氟化物鍍膜材料等；
2、其它化合物：硫化鋅ZnS、硒化鋅ZnSe、氮化鈦TiN、碳化硅SiC等真空鍍膜材料；
3、金屬鍍膜材料：高純鋁、高純銅、高純鈦、高純硅、高純金、高純銀、高純銦、高純鎂、高純鋅、高純鉑、高純鍺、高純鎳、高純鉭等金屬鍍膜材料；
4、高溫/低溫超導薄膜：低熔點超導薄膜、高熔點超導薄膜、合金薄膜、難熔金屬薄膜、化合物超導薄膜、NbN和Nb3Sn、Nb3Ge薄膜；釔系薄膜、鉍系薄膜和鉈系薄膜；
5、功能性薄膜：光學薄膜，背光/顯示用膜，顯示屏用膜，產業(yè)用薄膜，光伏薄膜；
6、涂層：PVD涂層、TiN涂層、TiC涂層、TiCN涂層、ZrN涂層、CrN涂層、MoS2涂層、TiAlN涂層、TiAlCN涂層、TiN-AlN涂層、CNx涂層、DLC涂層、ta-C涂層等多元復合涂層；

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