◆、鍍膜材料：金屬膜料、氧化物、氟化物、硫化物、鈦酸物、混合物等各種膜材、鍍膜蒸發(fā)料；PVD涂層、TiN涂層、TiC涂層、TiCN涂層、ZrN涂層、CrN涂層、MoS2涂層、TiAlN涂 層、TiAlCN涂層、TiN-AlN涂層、CNx涂層、DLC涂層、ta－C涂層等多元復合涂層；靶材：濺射靶材、金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材、合金靶材、單晶靶材、氧化物靶材、硼化物靶材、碳化物靶材、貴金屬靶材、稀有金屬靶材（鈦、鈮、鋯、鎳、鉭、鎢、鉬、鉿、鉻、銀等），單一金屬靶材、蒸發(fā)材料、特種靶材等各類靶材；
◆、低溫超導薄膜：低熔點超導薄膜：低熔點超導薄膜，合金薄膜；高熔點超導薄膜：難熔金屬，合金薄膜；化合物超導薄膜： NbN和Nb3Sn、Nb3Ge薄膜；
◆、高溫超導薄膜：釔系薄膜、鉍系薄膜和鉈系薄膜；
◆、功能薄膜：光學薄膜，背光/顯示用膜，顯示屏用膜，產(chǎn)業(yè)用薄膜，光伏薄膜；
◆、鍍膜設備：真空鍍膜機、真空蒸鍍設備、光學鍍膜機、濺射鍍膜機、眼鏡鍍膜機、光纖鍍膜、CVD設備、MOCVD設備、薄膜沉積設備、玻璃鍍膜設備、磁控鍍膜、蒸鍍設備、離子束沉積設備、電子槍、離子源；蒸發(fā)沉積掩膜、晶振片、鍍膜夾具、配件、儀器、鍍膜測試與監(jiān)控設備、膜厚監(jiān)測儀、鍍膜牢固度測試器等；
◆、鍍膜材料生產(chǎn)加工設備：冷等靜壓機，熱等靜壓機，磁控濺射熱蒸發(fā)，銅帶銅銦硫技術(shù)與設備，高溫釬焊爐，燒結(jié)爐，感應爐，電子束區(qū)熔爐，電子束熔煉爐，大面靶材釬焊爐等；
◆、超導器件：超導隧道器件，超導量子干涉器件，
◆、薄膜成型機械、檢測檢驗儀器、特殊裝置、薄膜原料及化工產(chǎn)品；
◆、潔凈工程：潔凈、防護系統(tǒng)，屏蔽防護產(chǎn)品、屏蔽機房設備、屏蔽桌/臺/柜，安全防護服、潔凈室耗材、防靜電產(chǎn)品等；

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