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1、制造設(shè)備（晶圓加工）
1.1、光刻設(shè)備：光刻機(jī)、光刻技術(shù)設(shè)備；
1.2、刻蝕設(shè)備：光刻膠、刻蝕機(jī)等刻蝕設(shè)備
1.3、沉積設(shè)備：物理氣相沉積技術(shù)設(shè)備、化學(xué)氣相沉積技術(shù)設(shè)備、原子層沉積技術(shù)設(shè)備等薄膜沉積設(shè)備；
1.4、注入設(shè)備：高能離子注入機(jī)、低能大束流注入機(jī)‌等；
1.5、熱處理設(shè)備：氧化、擴(kuò)散、退火等高溫工藝設(shè)備、快速熱處理（RTP）設(shè)備、氧化/擴(kuò)散爐‌等；
1.6、‌化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）設(shè)備：平坦化處理設(shè)備、拋光精度設(shè)備
2、封裝測(cè)試設(shè)備
2.1、封裝設(shè)備：固晶機(jī)、‌焊線機(jī)、連接器、‌塑封機(jī)等；
2.2、測(cè)試分選設(shè)備：測(cè)試機(jī)、檢測(cè)設(shè)備、編帶機(jī)等；‌
2.3、‌減薄/劃片設(shè)備：激光切割機(jī)、高精度劃片機(jī)等。