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展覽會2025中國芯片科技高峰論壇暨生產(chǎn)設(shè)備
時間:2025年10月28日-30日
地點:成都·西部國際博覽城
主辦單位:勵展國際博覽
媒體推廣:人民網(wǎng)、電子工程網(wǎng)、知乎、嗶哩嗶哩、小紅書、百家號、豆瓣、虎嗅、新浪希望、微博、脈脈、企鵝號、抖音、快手、今日頭條、網(wǎng)易新聞、雪球等
承辦單位:漢慕會展(上海)有限公司
一、展覽概況:
1、展覽引言:作為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的核心樞紐,芯片生產(chǎn)設(shè)備展覽會不僅是尖端技術(shù)展示的窗口,更是驅(qū)動產(chǎn)業(yè)革新的引擎。當(dāng)前,半導(dǎo)體行業(yè)正經(jīng)歷第三代材料升級、AI賦能設(shè)計工具鏈、先進(jìn)制程突破等關(guān)鍵變革,智能駕駛、機(jī)器人、低空經(jīng)濟(jì)等新興場景對芯片性能提出更高要求。在此背景下,2025年全球芯片生產(chǎn)設(shè)備展覽會以“技術(shù)鏈貫通”與“應(yīng)用場景融合”為主線,搭建起覆蓋材料、設(shè)備、制造、封測的全產(chǎn)業(yè)交流平臺,為行業(yè)參與者提供前瞻洞察與合作機(jī)遇。
2、參展數(shù)據(jù):展覽總面積15萬m²+,專業(yè)展面積23000m²+,觀眾流量180000+,展位12000個+,采購商6000+,已確定參加例如:英特爾、英偉達(dá)、臺積電、中芯國際、華虹公司、武漢新芯、中國信科、帝爾激光等。
3、目標(biāo)觀眾:我們重點邀請全國、省、市、各相關(guān)科研單位、應(yīng)用領(lǐng)域新能源汽車、工業(yè)生產(chǎn)設(shè)備、AI、醫(yī)療設(shè)備、智能產(chǎn)業(yè)、數(shù)據(jù)中心、智能駕駛、機(jī)器人、低空經(jīng)濟(jì)、電子設(shè)備及高算力產(chǎn)業(yè)等經(jīng)銷商、代理商領(lǐng)域等企業(yè)主管人員到會參觀、洽談。
4、特邀嘉賓排名不分先后
吳漢明(中國工程院院士)
許居衍(中國工程院院士)
梁孟松(IEEE院士)
劉勝(中國科學(xué)院院士)
楊德仁(中國科學(xué)院院士)
郝躍(中國科學(xué)院院士)
二、參展范圍:
1、制造設(shè)備(晶圓加工)
1.1、光刻設(shè)備:光刻機(jī)、光刻技術(shù)設(shè)備;
1.2、刻蝕設(shè)備:光刻膠、刻蝕機(jī)等刻蝕設(shè)備
1.3、沉積設(shè)備:物理氣相沉積技術(shù)設(shè)備、化學(xué)氣相沉積技術(shù)設(shè)備、原子層沉積技術(shù)設(shè)備等薄膜沉積設(shè)備;
1.4、注入設(shè)備:高能離子注入機(jī)、低能大束流注入機(jī)等;
1.5、熱處理設(shè)備:氧化、擴(kuò)散、退火等高溫工藝設(shè)備、快速熱處理(RTP)設(shè)備、氧化/擴(kuò)散爐等;
1.6、化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)設(shè)備:平坦化處理設(shè)備、拋光精度設(shè)備
2、封裝測試設(shè)備
2.1、封裝設(shè)備:固晶機(jī)、焊線機(jī)、連接器、塑封機(jī)等;
2.2、測試分選設(shè)備:測試機(jī)、檢測設(shè)備、編帶機(jī)等;
2.3、減薄/劃片設(shè)備:激光切割機(jī)、高精度劃片機(jī)等。
三、參展程序
1、參展企業(yè)確定面積及選定展位;
2、填妥參展申請回執(zhí)(合同)并簽字蓋章,然后將該表發(fā)送至承辦單位;
3、展位選定后企業(yè)3個工作日內(nèi)須將參展費用全款匯入指定帳戶,逾期不予保留所選展位;
4、組委會將于展前一個月將參展商手冊發(fā)給參展單位以備參考;
四、咨詢服務(wù):
手機(jī)同號:①③⑤⑤②④H③③⑨⑥加我請備注‘芯展’,聯(lián)系我時H改0即索取展商**新平面圖
參展咨詢:13552403396加我請備注‘芯展’ -
2025中國芯片科技高峰論壇暨生產(chǎn)設(shè)備展覽會 展會日程
手機(jī)微信同號:①③⑤⑤②④H③③⑨⑥加我請備注‘芯展’,聯(lián)系我時H改0即索取展商最新平面圖
參展咨詢:13552403396加我微信請備注‘芯展’
2025中國芯片科技高峰論壇暨生產(chǎn)設(shè)備展覽會 展會費用
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參展咨詢:13552403396加我微信請備注‘芯展’ -
2025中國芯片科技高峰論壇暨生產(chǎn)設(shè)備展覽會 參展范圍
1、制造設(shè)備(晶圓加工)
1.1、光刻設(shè)備:光刻機(jī)、光刻技術(shù)設(shè)備;
1.2、刻蝕設(shè)備:光刻膠、刻蝕機(jī)等刻蝕設(shè)備
1.3、沉積設(shè)備:物理氣相沉積技術(shù)設(shè)備、化學(xué)氣相沉積技術(shù)設(shè)備、原子層沉積技術(shù)設(shè)備等薄膜沉積設(shè)備;
1.4、注入設(shè)備:高能離子注入機(jī)、低能大束流注入機(jī)等;
1.5、熱處理設(shè)備:氧化、擴(kuò)散、退火等高溫工藝設(shè)備、快速熱處理(RTP)設(shè)備、氧化/擴(kuò)散爐等;
1.6、化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)設(shè)備:平坦化處理設(shè)備、拋光精度設(shè)備
2、封裝測試設(shè)備
2.1、封裝設(shè)備:固晶機(jī)、焊線機(jī)、連接器、塑封機(jī)等;
2.2、測試分選設(shè)備:測試機(jī)、檢測設(shè)備、編帶機(jī)等;
2.3、減薄/劃片設(shè)備:激光切割機(jī)、高精度劃片機(jī)等。2025中國芯片科技高峰論壇暨生產(chǎn)設(shè)備展覽會 的相關(guān)主題
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2025中國芯片科技高峰論壇暨生產(chǎn)設(shè)備展覽會